Editor Nanomaker.

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Editor Nanomaker. Classificação e resumo

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Editor Nanomaker. Descrição

O Nanomaker é um poderoso sistema de software / hardware para a litografia baseada em SEM / FIB que se destina à tecnologia de última geração de projetar e fabricar dispositivos eletrônicos micro e nano. A versão de teste do Nanomaker-Editor é limitada ao número de elementos na estrutura a ser exportada. Por que Nanomaker? O nanomaker fornece um conjunto único de possibilidades para nanotecnologias. É fornecido com editor gráfico amigável para projetar estruturas hierárquicas de qualquer tamanho e forma organizada para qualquer nível de complexidade. faz simulação de desenvolvimento de resistência. Calcula valores de dose de exposição / vezes considerando a correção de efeitos de proximidade para estruturas 2D / 3D. compensa a distorção estática do sistema de deflexão do e-feixe. reduz significativamente o tempo total de exposição, suprimindo ativamente os atrasos dinâmicos de deflexão de e-feixe. Pode ser usado como ferramenta diagnóstica para criação de visão panorâmica de alta resolução de objetos micro de larga escala (centímetros). Finalidades: Para converter qualquer microscópio eletrônico de varredura (SEM) em uma litografia de e-feixe. Para fornecer uma resolução final de litografia com uma determinada configuração (incluindo litografias industriais). Para alcançar isto: Faça correção para o efeito de proximidade durante a preparação de dados para litografia Compensar a distorção e atrasos do sistema de digitalização durante a exposição e a aquisição de imagem compensar a deriva do sistema na exposição prolongada prever resultados de litografia, simulando. Para garantir o ajuste para várias configurações de equipamentos litográficos, para a presença ou ausência de sistemas de suporte de raio, etapas, etc. Para criar estruturas tridimensionais em uma resistência. Para familiarizar o usuário com os princípios básicos da litografia. microscópio eletrônico de varredura controlado por Nanomaker Formulários: microeletrônica nanotecnologia 3D nano-micro patterning óptica difrativa (hologramas sintéticos) para faixa visível e de raio X microscopia digital Facilmente instalado em: SEM (JEOL, LEO, ZEISS, HITACHI, PHILIPS, FEI, TESCAN, ...) Focado Máquinas de Feixe Ion stm / afm's Requisitos de sistema: I486 ou processador de classe Pentium Microsoft Windows 98 / Me / NT 4.0 / 2000 / XP 64 MB de RAM 20 MB de espaço disponível em disco rígido Para mais informações, visite nossa homepage: http://nmaker.ru ou http://nanomaker.ru.


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